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四种电镀工艺的配方以及工艺条件


1前言
在五金电镀中,大部分镀件基体都为钢铁。钢铁表面预镀工艺主要有氰化镀铜、预镀镍、化学镀铜或化学镀镍等。由于环保及安全问题,氰化镀铜越来越受到限制,于是迫使表面研究工作者进行了无氰碱性镀铜的研究,但由于各种因素在生产应用上还没有得到大规模的推广[1~4]。本文对氰化镀铜、预镀镍、无氰碱性镀铜及另一种预镀工艺——酸性预镀铜进行比较,得出各种预镀工艺的优缺点。
2预镀配方及工艺条件

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3实验条件及方法
    实验时,预镀镍和无氰碱性镀铜温度为50±1℃,酸性预镀铜和氰化镀铜温度为25±1℃;结合力测试采用弯曲法和热震法[6],主要流程为:除油→除锈→预镀→镀酸铜→镀光亮镍→镀装饰性三价铬→吹干→测试;采用八点法测试分散能力[6],背面绝缘赫尔槽铁片测试两次平均值;沉积速度采用不同电流密度在面积为0.325dm2背面绝缘的铁片上电镀测试中心往外11个点平均值,结果为测试两次取平均值;深镀能力测定在Φ8×94mm铁管上进行,通孔或封闭一端用不同条件测试;孔隙率采用贴滤纸法[6];阴极电流效率采用库仑计测试。
4实验结果
4.1结合力
采用弯曲法和热震法对预镀镍、无氰碱性镀铜、酸性预镀铜和氰化镀铜四种预镀后镀酸铜、光亮镍和装饰三价铬工艺的镀层进行测试,结合力良好。
4.2电流密度及分散能力

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由图1可以看出,预镀镍的电流密度范围最宽,一般电镀时选取的电流范围为2~5 A/dm2;其次为无氰碱性镀铜,电镀时选取的电流范围为0.5~2.5A/dm2;酸性预镀铜和氰化镀铜的电流密度范围接近,电镀时选取的电流范围为0.3~2.0A/dm2。

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由表1得出,通过赫尔槽试片的8点法测定四种预镀工艺的分散能力,分散能力最好的为氰化镀铜,其次是无氰碱性镀铜,再是酸性预镀铜,分散能力最差的是预镀镍。观察第10个点的厚度可以发现,在1.0A×5min相同条件下,厚度大小排序为酸性预镀铜(0.49μm)>氰化镀铜(0. 38μm)>无氰碱性镀铜(0.29μm)>预镀镍(0.20μm),证明酸性预镀铜在低的电流下具有较高的沉积速度,这一点在沉积速度的测试中得到印证。
4.3沉积速度

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由图2可知,在电流密度为0.6~1.2 A/dm2时,沉积速度大小为酸性预镀铜>无氰碱性镀铜>预镀镍>氰化镀铜,在赫尔槽试片测厚中也反应这一特点;在电流密度1.2~2 A/dm2时,沉积速度大小为无氰碱性镀铜>酸性预镀铜>预镀镍>氰化镀铜。在0.6~2 A/dm2时,无氰碱性镀铜工件外观接近光亮,酸性预镀铜和预镀镍工件外观为半光亮,氰化镀铜为略显暗棕红色。
4.4镀液深镀能力
由表2可见,酸性预镀铜的深镀能力最好,其次是无氰碱性镀铜,预镀镍的深度能力最差。

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4.5镀层孔隙率

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由表3可见,在预镀正常厚度下,孔隙率酸性预镀铜和氰化镀铜的差不多,预镀镍的孔隙率最高;在镀层为20μm时,预镀镍仍具有较高的孔隙率,比较下酸性预镀铜孔隙率要比其它预镀工艺低。
4.6阴极电流效率

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由表4得出,在测试的各个电流密度下预镀镍、无氰碱性镀铜和酸性预镀铜的阴极电流密度远大于氰化镀铜,前三者的阴极电流效率都在95%以上。

5结论
(1)预镀镍具有很宽的电流密度范围,但孔隙率高和成本相对较高,尤其是镍价在比较高的时候,其成本急剧上升;
(2)氰化镀铜具有很好的分散能力和开槽成本相对低的特点,但电流效率较低及政府限制使用,将会成为淘汰的预镀工艺;
(3)无氰碱性镀铜本身不含氰化物,对环保有利,但在实际生产中还存在一些问题有待解决;
(4)酸性预镀铜具有很好的深镀能力,孔隙率较低,维护工作量不大,可作为钢铁件无氰预镀铜的选择。
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