硫酸铜---须采用化学纯度级(CP Grade)以上者，含五个结晶水(CuSo4·5H2O)的蓝色细粒状结晶与纯水进行配槽，所得二价蓝色的铜离子(或铜游子)即为直接供应镀层的原料。当铜离子浓度较高时，将可使用较大的电流密度而在镀速上加怏颇多。硫酸一提供槽液之导电用途，并在同离子效应下防止铜离子高浓度时所造成铜盐结晶之缺失。一般而言，当" 酸铜比" 较低时，会使得镀液的微分布力(Microthrowing Power)良好，对待镀面上的刮痕与凹陷等缺失，具有优先进入快速填平的特殊效果，是目前各种金属电镀制程中成绩之最佳者。

当酸铜比提高到10/1或以上时，则有助于PCB的孔铜增厚。尤其是高纵横比(4/1以上)的深孔，几乎已成非此莫办的必须手段。相对的此种做法对于表面缺陷的填平方面，其它效果则又不如前者。氯离子---常见酸性镀铜酸性镀镍皆须加入氯离子，原始目的是为了在电流密度增高中，协助阳极保持其可溶解的活性。也就是说当阳极反应进行过激，而发生过多氧气或氧化态太强不，此时氯离子将可以其强烈的负电性与还原性，协助阳极溶解减少其不良效应的发生。

最近许多对PCB镀铜的研究，发现氯离子还可协助有机助剂(尤其是载运剂)发挥其各种功能。且氯离子浓度对于镀铜层的展性(Ductility)与抗拉强度(Tensile Strength)也有明显的影响力。